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SVS-e2000 蒸发台


针对耐火和介电材料的高容量工业镀膜, e2000 具有以下优点:
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• 腔体尺寸范围从 6000mm 到 1200mm
• 多种单塔或多塔电子束枪(单塔可达 200 毫升容量)
• (设有多项)热蒸发装置
• 基材加热和监控系统(可达 650 摄氏度)
• 基材固定系统包括行星,旋转或直线运动
• 沉积率的监控和控制系统
• 离子辅助沉积和基材清洁
• 反应气体吸入式的氧化物及氮化物生产
• 低温或涡轮水泵和深冷技术利用一级泵使快速抽真空
• 全系统自动化

对精密光学的“棱镜”蒸发系统

通过以下设备,光学蒸发的棱镜有效范围可应用于 3 个内室尺寸(900,1200 和 1500mm 的基材夹具):

• 扩散或涡轮泵选择系统
• 石英晶体率及厚度控制
• 多达 3 个单塔或多塔电子束源
• 多电阻加热源
• 高能离子束源
• Pirani/Bayard-Alpert 结合的热离子表
• 用于反应气体吸入的 2 通道气流控制器
• 利用水晶灯辐射进行基材加热
• 配有为客户定制的旋转基材夹具
• 全系统自动化

可选的额外配件
• 现场穿透/反射监控装置