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RIE反应离子刻蚀服务



 

服务范围:

我公司实验室为微电子、光电子、通讯、微机械、新材料、能源等领域的客户提供器件研发和制造过程中的反应离子刻蚀服务,最大可以刻蚀8inch wafer。可以刻蚀和去除Si、SiO2、Si3N4、Poly-Si、光刻胶等材料。刻蚀速度快,一致性好。